أعلنت شركة تايوان لصناعة أشباه الموصلات (TSMC) أنها بدأت الإنتاج الكمي لشريحة 2 نانومتر منذ الربع الرابع من 2025، وفق تحديث رسمي نشرته على موقعها الإلكتروني ونقلته Focus Taiwan.
تركّزت عمليات الإنتاج حاليًا في مصنع 22 في كاوشيونغ، مع الاعتماد على الجيل الأول من تقنية ترانزستورات النانوشيتية، التي ساهمت في تقدم كبير في الأداء وكفاءة استهلاك الطاقة.
وتشير TSMC إلى أن شريحة 2 نانومتر هي الأكثر تقدمًا في صناعة أشباه الموصلات من حيث كثافة الترانزستورات وكفاءة الطاقة، وقد صُممت لتلبية الطلب المتزايد على الحوسبة الموفرة للطاقة، خصوصًا في تطبيقات الذكاء الاصطناعي والأجهزة المحمولة.
وذكرت الشركة أن الشريحة توفر زيادة في السرعة تتراوح بين 10 و15% عند نفس مستوى استهلاك الطاقة، أو تقليل استهلاك الطاقة بنسبة 25 إلى 30% عند نفس السرعة، مع زيادة كثافة الترانزستورات بأكثر من 15% مقارنة بشريحة 3 نانومتر السابقة.
وأكدت TSMC أنها تعمل حاليًا على تطوير نسخة محسّنة من تقنية 2 نانومتر باسم N2P، ومن المتوقع أن تدخل الإنتاج الكمي خلال النصف الثاني من 2026.